设备应用场景：
● 通过湿法清洗、腐蚀等工艺实现光刻胶的显影、样品的清洗微纳结构的图形化腐蚀等功能，并兼具光刻胶的旋涂和烘烤功能。
设备技术特点：
● 集成多种功能
● 多种化学品应用
● 模组化设计
技术优势：
● 量身定制，占地面积小，合理使用洁净间区域
●设备集成多种功能，机台使用率高
●设备自动配液、供液，自动供液种类≥3种
●显影均匀性≤5%，烤胶表面温度均匀性：±1%
●可储存100组烤胶配方，每个配方可设置大于五个加热阶段，加热时间和顶针高度可调
●设备配备多种传感器，精确显示温度、液位、药液使用等情况
设备应用场景：
● 通过湿法清洗、腐蚀等工艺实现光刻胶的显影、样品的清洗微纳结构的图形化腐蚀等功能，并兼具光刻胶的旋涂和烘烤功能。
设备技术特点：
● 集成多种功能
● 多种化学品应用
● 模组化设计
技术优势：
● 量身定制，占地面积小，合理使用洁净间区域
●设备集成多种功能，机台使用率高
●设备自动配液、供液，自动供液种类≥3种
●显影均匀性≤5%，烤胶表面温度均匀性：±1%
●可储存100组烤胶配方，每个配方可设置大于五个加热阶段，加热时间和顶针高度可调
●设备配备多种传感器，精确显示温度、液位、药液使用等情况