引言
清洁是许多制造和维护过程中不可或缺的一部分，通常对、国防、MEMS、光子学和生物技术行业中广泛技术的性能至关重要。在这种情况下，“清洁”是指使用溶剂、酸或碱等试剂去除光学、半导体和电子设备等产品中不需要的微粒和其他污染物。它还指半导体制造中使用的蚀刻工艺，其中“清洁”是精确去除薄层材料。然而，虽然注意力通常集中在所使用的化学品以及时间、温度和搅拌上，但将精确干燥与清洁过程相匹配，甚至对其进行定制是必须考虑的基本要素。在这项工作中，与专家合作可以帮助微调某些关键变量，例如清洁度和干燥速度以及产品几何形状所需的任何调整。【】
选择干燥工艺
虽然对流干燥、N2吹气和HEPA干燥足以满足许多应用，但对于那些重视低颗粒数的应用而言，它们可能不是最佳选择。【设备】【设备】
在对流干燥中，干燥室被加热以蒸发产品中的水分，过滤后的热氮气或干净的干燥空气可以辅助干燥。虽然成本低，但随着水蒸发，这会留下残留物和水渍。根据水量，这可能需要很长时间。当需要彻底干燥或产品对温度敏感时，该过程不适用。在 N2 吹干机方法中，氮气通过高压气刀吹入干燥室。水分从产品中吹出并向下进入增压室，并在排气流中排出。尽管该工艺最初成本较低，但它使用大量氮气，可能无法完全干燥产品，并且不适用于去除时保留水分的几何形状，包括带有盲孔的几何形状。【晶圆清洗设备制造】【晶圆清洗设备制造厂家】【KOH腐殖清洗机】【】
为了尽可能减少硅晶片、玻璃基板、磁盘驱动器或光学器件等的颗粒，建议使用表面张力梯度 (STG) 干燥机或闭环异丙醇 (IPA) 蒸汽真空干燥机。使用STG干燥器，腔室充满水，然后IPA蒸汽在除水时缓慢引入腔室，用IPA代替水。然后蒸发IPA。该过程有几个优点。没有水渍，也没有移动部件产生颗粒。它使用的 IPA 相对较少，IPA 排放量低，对环境友好。然而，该过程将 IPA 溶解在水中并将其排出。它还使用大量去离子水进行漂洗。【】【】【设备】
使用像JS 的CLV 型号这样的闭环IPA蒸汽真空干燥机，会产生超洁净蒸汽，然后将其引入密封干燥室。闭环系统允许新鲜的 IPA 蒸汽冲洗待干燥的表面，渗透表面区域并吸收水分。低压真空将密封腔室中残留的水分吸走，并远离正在干燥的产品。【马来西亚戈尼干炎装备】【兆声清洗】
这个过程有很多优点。它提供最干净的干燥，没有移动部件产生颗粒。它可以干燥盲孔并消除水渍。它还对环境无害，IPA 排放量低。【半导体】
产品几何形状和特征
除了选择干燥工艺外，重要的是要查看被干燥产品的几何形状和特征以优化整个过程。在这些情况下，产品的几何形状需要真空干燥或烘箱干燥。具有盲孔的物品也是如此，这些盲孔被钻孔、钻孔或铸造到特定深度。【湿法刻蚀】【湿法这次设备】【湿法设备制造厂家】
在另一个例子中，圆形——例如使用湿法清洁的硅胶棒——比扁平形状更容易清洁，扁平形状在移除时更容易保持水分。甚至机架的结构也很重要，因为像特氟龙这样的材料是多孔的并且可以保持水分。虽然涉及温度和化学浓度的清洁通常是过程工业专业人士和研究实验室的主要关注点，但考虑如何加强干燥将显着改善整个过程。【rca清洗设备】【】【英思特】
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